刘星海教授坐在长条桌的一侧，面前摊着那个黑色的皮文件夹，手里握着一支钢笔，正在纸上写着什么。

他今天穿了一身藏蓝色的中山装，头发梳得一丝不苟，整个人看起来比平时庄重了不少。

陈光远坐在他旁边，面前也摊着一个文件夹，表情沉稳，但手指在桌上轻轻叩着，频率比平时快了一些。

两个人都没怎么说话。

吕辰走进去，在陈光远旁边坐下，把手提包打开，拿出黑皮本子放在桌上。

“教授。”

刘星海教授抬起头，看了他一眼，点了点头，没说话，继续写。

陈光远朝他微微点了一下头，也没说话。

会议室里安静得能听见墙上挂钟的滴答声。

吕辰从帆布包里掏出黑皮本子，翻到最后一版定稿，从头到尾默读了一遍。

这些文字他已经背得滚瓜烂熟，但他还是想再看一遍，确保万无一失。

大约过了十几分钟，走廊里传来脚步声。

不是一个人的脚步，是好几个人。

脚步声沉稳而有力，踩在地毯上发出轻微的闷响。

会议室的门被推开了。

走在最前面的是一个身材高大的身影，穿着深灰色的中山装，步伐从容，表情温和但眼神锐利。

他的目光在会议室里扫了一圈，从刘星海教授到陈光远到吕辰，每一个人都看了一眼。

刘星海教授站了起来。

陈光远站了起来。

吕辰也站了起来。

“首长好。”三个人几乎同时开口。

首长点了点头，在主位坐下。

他身后跟着几个人，有的穿着军装，有的穿着中山装，各自在长条桌两侧坐下，面前的桌上都摆着文件夹和白瓷茶杯。

会议室里的气氛变了。

不是紧张，是一种沉稳的、庄重的、让人不敢造次的感觉。

像有人在空气中加了一把看不见的尺子，每个人都自动挺直了腰板。

首长端起茶杯，喝了一口，放下。

目光落在刘星海教授身上。

“刘教授，开始吧。”

刘星海教授站起来，微微欠了欠身，然后翻开文件夹，开始汇报。

他的声音不大，但很稳，每一个字都咬得清清楚楚。

“首长，各位领导。我代表星河计划领导小组办公室，汇报星河计划的总体进展。”

他顿了顿，目光扫过长桌两侧的面孔。

“星河计划自1962年启动，至今已经八年。八年来，我们围绕集成电路这一战略领域，从基础材料、工艺装备、芯片设计、系统集成四个方向，开展了系统性、前瞻性的科研攻关。”

他在白板上写下了一个数字：8年。

“第一个阶段，1962年到1965年，是‘技术补课’阶段。我们系统梳理了国内在材料、工艺、设备、设计等领域的短板，列了793项第一期技术任务清单，一项一项地攻关。这个阶段，我们解决了‘从无到有’的问题，5微米工艺全线贯通，第一代集成电路芯片定型生产。”

他在白板上写下第二个数字：5微米。

“第二个阶段，1965年到1970年，是‘重点突破’阶段。以昆仑工程为牵引，集中力量攻克2微米工艺和向量并行架构。这个阶段，我们解决了‘从有到优’的问题，昆仑1机研制成功，峰值性能每秒4.5亿次，在向量并行路线上实现了国际领先。”

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他在白板上写下第三个数字：4.5亿次。

会议室里安静了一瞬，有人在本子上飞快地记，有人靠在椅背上，目光落在白板上那些数字上。

刘星海教授继续说。

“目前，星河计划已经进入第三个阶段，‘自主跨越’。我们的目标是向亚微米工艺进军，在若干关键方向上实现从‘并跑’到‘领跑’的跨越。”

他翻开文件夹，念了几个数字。

“1微米光刻机，长光所已经完成原理样机，预计1972年之前具备量产能力。0.8微米工艺，6305厂已经启动预研，目标1973年之前突破关键技术。4英寸硅单晶，材料组已完成实验室样品，纯度8N以上，目标明年年底之前实现批量生产。”

首长插了一句话，声音不大，但每个字都很清楚。

“刘教授，你刚才说‘并跑’和‘领跑’。你觉得，我们现在哪些方向是‘并跑’，哪些方向已经‘领跑’了？”

刘星海教授想了想，回答得很慎重。

“首长，向量并行架构这个方向上，昆仑1机的技术路线和性能指标，在国际上是有竞争力的，可以说我们跑在了前面。这是一个架构层面的创新，不是简单地在主频上跟别人较劲。”

他顿了顿，又说。

“但在基础工艺和核心设备上，比如光刻机、高纯材料、EDA工具，我们跟西方还有差距。这些方向，目前是‘并跑’，跟得上，但谈不上领先。”

首长点了点头，没再追问。

刘星海教授继续往下讲，讲了星河计划的组织模式、协作机制、人才培养、下一步的规划。

他讲得不紧不慢，每一个判断都有数据支撑，每一个结论都有事实依据。

讲了大约十五分钟，他合上文件夹，退后一步。

“星河计划的总体情况，我就汇报到这里。”

首长微微点了点头，目光转向陈光远。

陈光远站起来，翻开文件夹，开始汇报。

他的声音比刘星海教授沉一些，带着一种厂长特有的、干练的、不拖泥带水的节奏。

“首长，各位领导。我汇报6305厂在光刻工艺和芯片制造方面的进展。”

他在白板上画了一个简图，标注了光刻机的几个核心部件。

“光刻机，是集成电路制造的核心设备，也是我们与西方差距最大的领域之一。目前，2微米光刻机已经技术稳定量产，完全自主。1微米光刻机，工作台精度需要0.05微米，曝光波长365纳米，物镜数值孔径0.4。这些指标，我们已经在实验室里跑通了。现在卡在批量制造的良率上。”

首长问了一句：“良率多少？目标多少？”

陈光远翻开文件夹，看了一眼数据。

“目前实验室良率约40%，目标量产良率65%以上。我们预计，今年年底之前能解决这个问题。”

首长又问了一句：“1微米光刻机，关键零部件是进口的还是自产的？”

陈光远的回答很干脆：“全部自产。光源、镜头、工作台、对准系统，全部是国内配套的。”

首长点了点头。

陈光远继续往下讲，讲了光刻胶、掩模版、超纯水、洁净室等配套技术的进展，讲了6305厂下一步的扩产计划，讲了2微米工艺的良率爬坡情况。

他讲得很细，但又不啰嗦，每一个技术点都只说最关键的那一两句。

汇报持续了大约十分钟。

陈光远合上文件夹，退后一步。

“集成电路工艺的情况，我就汇报到这里。”

首长端起茶杯喝了一口水，目光从刘星海教授和陈光远身上移开，落在吕辰身上。

吕辰感觉到那道目光，像是被什么东西击中了，心跳快了一拍。