罗斯塔姆重重地点了点头，目光重新投向观测窗，

仿佛要穿透这厚重的玻璃和数千公里的距离，看到那些正在产线上流转的晶圆。

“但我相信我们的方向是对的。

数学不会说谎，如果推导过程严谨，边界条件设定合理，那么现实应该不会偏离太远。”

这既是对科学的信仰，也是对自身工作的信心。

祁同伟拍了拍他的肩膀：

“走，去指挥中心。我们需要盯住每一个反馈数据。

未来一周，这里就是我们的前线指挥部。”

......

“汉芯”研发中心顶层的联合指挥大厅，此时已然进入战时状态。

巨大的弧形主屏幕上，分割显示着多个画面：

合作晶圆厂远程共享的有限生产状态信息（经过处理，不涉密）、汉东本地试验线的实时监控、各种数据分析和仿真平台的界面，

以及一个不断跳动的、以小时为单位的倒计时。

数十名来自设计、工艺、整合、测试、可靠性等各个部门的骨干工程师和专家，

坐在各自的终端前，

神情专注，偶尔低声交流。

空气中弥漫着浓烈的咖啡味和一种全神贯注的“嗡嗡”声。

祁同伟和罗斯塔姆的到来，引起了一阵轻微的骚动，但很快平息。

大家都知道，最关键的时刻，真正的指挥官就位了。

祁同伟没有发表任何动员讲话，只是径直走到中央指挥台前，

与先期在此坐镇的赵立春、高育良等人简短交换了眼神，

点了点头，便坐了下来。

罗斯塔姆则被王老院士拉到旁边的专家席，那里有数块可以实时书写和调取数据的高清显示屏。

时间，在令人窒息的专注中缓慢流逝。

第一批中间测试数据在流片开始36小时后传回。

是关于硅片清洗和初始氧化层质量的报告。

数据一切正常，符合预期。

指挥大厅里响起一阵轻微的、放松的呼气声。

但这仅仅是漫长马拉松的第一步。

紧接着，是光刻对准（Overlay）精度数据、第一层多晶硅栅（Poly Gate）刻蚀的关键尺寸（CD）均匀性数据、浅掺杂漏（LDD）注入的剖面分布模拟结果……